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靜電噴霧液滴接觸荷電原理

來(lái)源:表面技術(shù) 瀏覽 23 次 發(fā)布時(shí)間:2025-04-30

靜電噴霧法是利用高壓靜電使液體帶電霧化并控制液滴運(yùn)動(dòng)和破碎,達(dá)到均勻噴霧效果的一種有效技術(shù)。它具有霧滴粒徑細(xì)小、分布均勻性高、運(yùn)動(dòng)軌跡可控、沉積效率和附著性高等優(yōu)點(diǎn),在微納米材料的加工、制備等領(lǐng)域表現(xiàn)出巨大的潛力。在機(jī)械制造方面,可以利用靜電噴霧技術(shù)解決砂輪磨粒分布不均勻的問(wèn)題;在生物醫(yī)學(xué)方面,利用靜電噴霧實(shí)現(xiàn)聚乳酸-羥基乙酸共聚物微球的制備,并用于運(yùn)送藥物辛伐他丁;在電化學(xué)方面,該方法能制備太陽(yáng)能電池的二氧化鈦光陽(yáng)極。


靜電噴霧液滴接觸荷電原理


靜電噴霧裝置主要由高壓靜電發(fā)生器、控制器、微量注射器、噴嘴電極、環(huán)形電極和接收板組成,如圖1a所示。噴嘴電極連接高壓靜電發(fā)生器的負(fù)極,環(huán)形電極接高壓靜電發(fā)生器的正極。高壓靜電發(fā)生器輸出負(fù)高壓,在噴嘴電極會(huì)產(chǎn)生大量的負(fù)電荷,同時(shí)環(huán)形電極上會(huì)感應(yīng)出正電荷。調(diào)節(jié)靜電發(fā)生器的參數(shù),控制噴嘴電極和環(huán)形電極之間的電場(chǎng)強(qiáng)度。將微量注射泵固定在支架上,使用微量注射泵將溶液勻速泵送到噴嘴處。液體從噴嘴噴出時(shí)與高壓電極接觸,使電極上的電荷傳導(dǎo)到液體。帶電液體在靜電力、電荷互斥力、重力、環(huán)境復(fù)合力的作用下,破碎成細(xì)小液滴,并均勻地吸附在工件上。

靜電噴霧溶液為低導(dǎo)電率液體,接觸荷電使液體荷電最充分。電極荷電方式如圖1b所示,通電后,噴嘴電極與環(huán)形電極組成電容器的兩個(gè)極板,噴嘴電極為細(xì)長(zhǎng)軸,帶高壓負(fù)電,環(huán)形電極接正極(或者接地)。由高斯定律可求噴嘴電極的電荷量。取半徑為r、長(zhǎng)度為l的圓柱高斯面,則:

其中,1Eφ表示通過(guò)高斯面的電通量,q為噴嘴的帶電量,ε0為空氣介電常數(shù),E1為噴嘴電極產(chǎn)生的電場(chǎng)強(qiáng)度。同理,距離圓環(huán)高度為h處的電場(chǎng)強(qiáng)度為:


其中,E2為環(huán)形電極產(chǎn)生的電場(chǎng)強(qiáng)度,R為環(huán)形電極半徑。根據(jù)電場(chǎng)疊加原理,噴嘴電極與環(huán)形電極之間的電勢(shì)差U12為:


其中,r0為噴嘴半徑,H為環(huán)形電極到噴嘴電極之間的垂直距離。電容C為:


電容大小與電極間的參數(shù)有關(guān):隨電極間的電壓增大,兩電極的荷電量增加,使液體荷電量及兩極間的電場(chǎng)強(qiáng)度增大,靜電噴霧液體受靜電力的影響變大。另外,液體在靜電噴霧過(guò)程中還受粘滯力、慣性力、表面張力等作用。當(dāng)帶電液體向基底運(yùn)動(dòng)時(shí),運(yùn)動(dòng)形態(tài)受到韋伯?dāng)?shù)We、雷諾數(shù)Re等無(wú)量綱數(shù)的影響。韋伯?dāng)?shù)We和雷諾數(shù)Re的計(jì)算如下:

其中,ρ為流體密度,vl為射流流速,ri為液滴半徑,γ為流體的表面張力系數(shù),μ為液體運(yùn)動(dòng)黏性系數(shù)。液體流速的韋伯?dāng)?shù)與液體流速的平方成正比。本實(shí)驗(yàn)將0.4 g、粒徑為25 nm的SiO2微粒均勻分散在20 mL酒精中作為靜電噴霧溶液,密度為8.61 g/cm3,表面張力為24.6 mN/m,流量為10.6 mL/h。噴嘴負(fù)電極使用精密點(diǎn)膠針頭(內(nèi)徑0.75 mm,外徑1.00 mm),環(huán)形正電極使用黃銅環(huán)(內(nèi)徑30 mm,外徑40 mm),噴嘴底部與環(huán)形電極之間的距離為10 mm。計(jì)算得到噴嘴處射流的韋伯?dāng)?shù)約為e-21,雷諾數(shù)為2e-12,慣性力和黏性力對(duì)射流的影響都很小,因此液體的運(yùn)動(dòng)狀態(tài)主要受靜電力和表面張力的影響。當(dāng)液滴帶電量超過(guò)瑞利極限時(shí),液滴將克服表面張力發(fā)生破碎。


電壓越高,液體霧化成的液滴越細(xì)小。隨著電壓的升高,液滴霧化的射流狀態(tài)大致可以分為三種:滴狀模式、錐射流模式和多股射流模式。在較小的電壓(0~3 kV)下,噴嘴處液體所受的電場(chǎng)力小于表面張力,噴嘴中液體以滴狀形態(tài)落下,為滴狀模式。電場(chǎng)力逐漸增大,噴嘴液體被拉成細(xì)長(zhǎng)軸狀,形成連續(xù)的射流。進(jìn)一步增大電壓(如圖2a、b所示),液體在噴嘴處形成錐狀,且破碎成小霧滴,為錐射流模式,如圖2b所示,射流狀態(tài)最穩(wěn)定。

如圖2c所示,繼續(xù)增大電壓到5 kV時(shí),噴嘴處的液體錐射流變?yōu)閮晒伞k妷哼_(dá)到5.6 kV時(shí)形成多股細(xì)射流,噴霧覆蓋范圍變大,即多股射流模式。多股射流的霧滴更小且噴涂范圍更大,因此符合制備具有微結(jié)構(gòu)的薄涂層實(shí)驗(yàn)要求。電壓達(dá)到6 kV時(shí),多股射流比較穩(wěn)定,如圖2d所示。當(dāng)電壓超過(guò)8 kV后,卷吸現(xiàn)象明顯,大量霧滴向環(huán)形電極方向運(yùn)動(dòng),樣件上二氧化硅的沉積率降低。因此,后續(xù)研究中選用6 kV和7 kV兩個(gè)參數(shù)分析電壓對(duì)結(jié)構(gòu)與潤(rùn)濕性能的影響。


本文揭示了靜電噴霧過(guò)程中液體接觸荷電原理及霧化機(jī)理。隨著電壓的增高,液體射流模式逐漸由滴狀模式、單股射流轉(zhuǎn)變?yōu)閮晒缮淞骱投喙缮淞鳎渲卸喙缮淞鳡顟B(tài)下的霧滴更小,覆蓋范圍較大,適合制備微結(jié)構(gòu)薄膜層。


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